中国半导体行业迎来关键时刻。国内首台光芯片专用半导体级真空气压式纳米压印光刻机由璞璘科技正式交付深圳力策科技。这台设备实现了8英寸光芯片晶圆规模化量产，线宽分辨率小于10纳米，制造成本仅为传统深紫外方案的十分之一。它彻底改变了以往的依赖格局，让光芯片生产走上更顺畅的道路。
在过去十年里，中国芯片产业最头疼的环节就是光刻。光刻就像芯片的印刷机，直接决定最终产品的精确度和性能。高端深紫外和极紫外光刻机长期被荷兰的ASML一家公司掌控，对相关领域采取了限制措施。日本的佳能和尼康在纳米压印设备上也同样设置了障碍，核心技术无法卖到中国。 没有这些光刻设备，就无法做出高端芯片。芯片造不出来，自动驾驶、人工智能算力和高速光通信这些关键产业就会卡住很多地方。不少企业只能高价求购二手设备，或者拆开旧机研究，却总在技术上碰壁。这样的情况让很多公司耗费大量资源，却难以真正迈出一步。 更让人感到棘手的是，传统光刻路线早已被海外专利牢牢锁住。分辨率受光的衍射极限限制，必须不断缩短光源波长，设备成本像乘数一样增加。一台极紫外光刻机售价超过1.5亿美元，耗电量惊人，而且一直对相关领域实行禁运。深紫外设备虽然能买到，但价格高昂、产能不足，光芯片应用起来成本更是高得吓人，这直接阻碍了产业的规模化发展。小黑书
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